Ka aplikasyon nan gade vit nan semi -conducteurs elektwonik, fotovoltaik ak endistri FPD (2)

Ka aplikasyon nan gade vit nan semi -conducteurs elektwonik, fotovoltaik ak endistri FPD (2)

Peek Holder Wafer

Holder Wafer Peek Holder Wafer, yon zouti pou men ki te kenbe enspeksyon nan gato.
Poek Polymer se yon tèmoplastik pèfòmans-wo ak yon konbinezon ekselan nan pwopriyete ki fèt satisfè demand yo ogmante nan endistri a elektwonik.
1. Rezistans tanperati ki wo: li gen yon rezistans chalè ki rive jiska 300 ° C. Li ka kenbe fòs li yo ak estabilite dimansyon anba tanperati a segondè nan plon-gratis soudaj pwosesis. Li pa pral defòme nan 5-10 segonn nan yon tanperati ki nan 250-280 ° C. Akonpaye pa fenomèn rflu

2. Mete rezistans: segondè fòs mekanik ak rezistans mete

3. Estabilite dimansyon: Materyèl la Klas ranpli diminye koyefisyan an nan ekspansyon tèmik, ogmante tanperati a deformation chalè, epi asire strik kontwòl dimansyon
4. Low outgassing: diminye polisyon ak amelyore disponiblite nan aplikasyon pou kote Pwodwi pou Telefòn gen kondisyon pite (tankou kondui ki gen kapasite difisil, bwat wafer)
5. Low igroscopicity, ki trè enpòtan pou kenbe dimansyon estabilite ak pèfòmans izolasyon

Peek woulèt yo te itilize nan semi -conducteurs elektwonik, fotovoltaik, endistri FPD

1. Ekselan rezistans mete ak dite sifas segondè ka anpil diminye jenerasyon pousyè.

2. Pite ultra-wo, presipite ki ba ak outgassing ki ba, ki ka evite polisyon.

3. Segondè rezistans chalè, tanperati a itilize alontèm se 260 ° C.

4. Rezistans Kowozyon Chimik, ka kenbe tèt ak pi sibstans chimik korozivite, diminye domaj ekipman yo

kondisyon antretyen.

5. Bon izolasyon elektrik, itilize alontèm nan anviwònman tanperati ki wo, ka toujou kenbe bon

Bon izolasyon elektrik.

6. Ba bri.

Gade vit CMP fanm k'ap pile bag

Materyèl altènatif: P

Kòm yon etap enpòtan nan pwosesis manifakti semi-conducteurs, polisaj chimik mekanik (CMP) mande pou kontwòl pwosesis strik, tolerans strik ak fòm sifas-wo kalite ak avyon. Se miniaturization nan pwodwi ak ekipman elektwonik plis woule soti. Pi wo demand yo mete sou pèfòmans pwosesis; Tout faktè sa yo ap vin pi plis ak pi sevè, e konsa kondisyon yo ki pèfòmans nan bobin an kenbe asanble bag (yon eleman kritik nan pwosesis la CMP) yo tou ogmante. Yo te itilize bag CMP pou woule pou yo monte wafer la pandan lapping pou sekirite pen plat la. Enèji santral pwodiksyon pi ba pousantaj Polonè, sifas ki lis, sere tolerans plan, pi wo estabilite materyèl, ak pi ba rezistans Vibration, men site la se ke seleksyon an materyèl ak konsepsyon nan bag la fixation CMP yo ta dwe rezonab. Espesyalman si sifas la anba nan bag la fixation CMP se trè plat, pwodiksyon an nan wafer la ap ogmante kòmsadwa.

Avantaj prensipal la:

1. Segondè estabilite dimansyon; Li ka kenbe modil anba kondisyon tanperati ki wo ak amelyore pi wo pèfòmans pwosesis ak pèfòmans pwodwi.

2. fasilite nan pwosesis;

3. Bon pwopriyete mekanik; Apwopriye pou rezistans enpak, asanble ekipman vit, bon vitès robo ak bon jan kalite pwodwi ki estab.

4. Bon rezistans korozyon chimik; kapab kenbe tèt ak korozyon an nan pi pwodwi chimik yo, ki se benefisye pwoteje pati ak prolonje lavi sèvis yo.

5. Bon rezistans mete.

6. Li ka diminye pri a nan sistèm nan entegre, epi li te pwouve ke se envestisman an rekonpans.

Peek vis, boulon gade vit, vis gade vit

Itilize pou ranplase: pp pa ak lòt materyèl komen

Karakteristik yo ak avantaj ki genyen nan vis gade vit:

1. Ka pwosesis la bòdi piki dwe itilize pou yon sèl-fwa bòdi, ak pri a pwosesis ki ba.

2. Kowozyon rezistans, bon rezistans nan pwodwi chimik divès kalite nan yon pakèt

3. Rezistans tanperati ki wo: tanperati a itilize alontèm se 260 ° C, ak tanperati a itilize kout tèm ka rive jwenn 300 ° C.

4. Pwa limyè.

5. Ekselan pèfòmans elektrik.

6. Radyasyon rezistans.

Gade vit vakyòm ki pa Peye-make tas aspirasyon

Materyèl altènatif: kawotchou

Dimansyon Itilize: Pou absòpsyon san pwoblèm nan ekran telefòn mobil, ekran LCD, elatriye.

Avantaj:

1. Instant chofaj a 300 degre Sèlsiyis, kontinyèl chofaj a 250 degre Sèlsiyis

2. Vacuum traceless adsorption

3. Segondè pite, pa gen okenn eleman alojene, pa gen polisyon nan materyèl semi -conducteurs

4. Rezistans Kowozyon Chimik

5. Segondè fòs ak rezistans mete

6. ka modènize a anti-estatik pwodiksyon gade vit

Peek Vacuum aspirasyon pwent, Vacuum aspirasyon pwent baton

Dimansyon aplikasyon an: Pou 2-8 pous semi-conducteurs gato oswa dirije gato epitaksyal

Avantaj:

1. Instant chofaj a 300 degre Sèlsiyis, kontinyèl chofaj a 250 degre Sèlsiyis

2. Vacuum traceless adsorption

3. Segondè pite, pa gen okenn eleman alojene, pa gen polisyon nan materyèl semi -conducteurs

4. Rezistans Kowozyon Chimik

5. Segondè fòs ak rezistans mete

6. ka modènize a anti-estatik pwodiksyon gade vit